Superficie de silicio terminada por el hidrógeno

Una superficie de silicio terminada por el hidrógeno es un por medios químicos passivated silicio substrate cuyo óxido natal (SiO) la lámina delgada se quita grabando al agua fuerte en la solución acuosa del fluoruro de hidrógeno, dejando los átomos de silicio superficiales covalently unido al hidrógeno.

Ya que todos los átomos de Si superficiales totalmente se coordinan, la terminación de hidrógeno lleva a la estabilidad realzada en ambientes ambientales a diferencia de una 'superficie limpia' que tiene unpassivated átomos superficiales u obligaciones pendientes. Es tan inerte que se puede manejar en el aire sin cualquier cuidado especial durante varios minutos.

Una superficie de silicio terminada por el hidrógeno tiene otra propiedad excelente: se puede aplanar al nivel atómico grabando al agua fuerte. Por ejemplo, para grabar al agua fuerte un silicio terminado por el hidrógeno (111) la superficie, la solución acuosa del fluoruro de amonio o el agua hirviente por lo general se usan.

Como otros grupos silyl de compuestos orgánicos, los grupos de H-Si en la superficie reaccionan con moléculas que tienen obligaciones no saturadas del terminal o grupos diazo. La reacción se llama hydrosilylation. Muchas clases de compuestos orgánicos con varias funciones pueden ser introducidas en la superficie de silicio por el hydrosilylation de una superficie terminada por el hidrógeno.

El silicio es el segundo elemento químico más abundante de la Tierra, y hoy los cristales de silicio de la pureza alta se fabrican en serie. Por consiguiente, las superficies de silicio terminadas por el hidrógeno son un material prometedor como un compuesto de sustancias orgánicas e inorgánicas.



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